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  • 原创沪指陷落 一片悲嚎!制裁之下 它却反势上扬!?
    时间:2020-09-09   作者:admin  点击数:

    原标题:沪指陷落 一片悲嚎!制裁之下 它却反势上扬!?

    平湖议尖广告有限公司

    文/Doris

    这周五,沪指陷落3400点,下跌了1.95%,这也是今年3月16日大跌以来的最大单日跌幅。

    不过,也有板块一连前几日的势头,照样实现强势上涨:

    周四,光刻胶领涨各大版块;周五,光刻胶板块照样实现了团体上涨。

    不望不清新,年头至今,领涨光刻胶的蓝英装备、晶方科技、安集科技和容大感光的涨幅已经超过了200%,羡煞旁人。

    反市上扬 羡煞旁人!

    在周四的文章《震惊A股 羡煞旁人!纷纷涨停背后 竟有黑雷丛生?!》中,刀姐介绍了光刻胶板块的上涨逻辑,并指出了其中主要的一个关键点:要投就投中高端的光刻胶龙头!

    为什么?

    浅易来说,吾国光刻胶在矮端行使周围已基本已足自给,但是在高端产品方面照样必要突破。

    光刻胶分三个细分周围:半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶,其中半导体光刻胶代外了最先辈的光刻胶技术。

    全球光刻胶走业表现寡头垄断格局,日本光刻胶公司领跑,日本JSR、东京答化、信越化学、富士电子材料四家企业市占率高达72%。大陆企业份额不能10%,且国内供答以PCB光刻胶为主,占到95%。

    固然国内光刻胶需求不息上涨,但是国内光刻胶仍相等倚赖进口,半导体光刻胶和LCD光刻胶几乎全靠进口,趁便挑一下,能自产的PCB光刻胶的生产质料也倚赖进口。

    在半导体制造中,光刻胶及其配套设备首到赞成产业链的关键作用,光刻胶的质量直接影响到半导体集成电路/器件的制程精度。

    为了保证高精度光刻的质量,如7/5nmIC制程,益的光刻胶必须已足高分辨度、高敏感度、高对比度等技术指标。因此,光刻胶是赞成产业链的关键材料。

    在国际博弈中,光刻胶是吾国半导体产业最大柔肋之一,无法自产会使本本地货业受制于人,容易“卡脖子”。

    2019年日本断供韩国半导体质料的事件表明,只相关键材料国产化才能更益保证产业发展。供需矛盾添剧下,光刻胶国产化千钧一发。

    总之,光刻胶的矮端周围已经异国太大的发展空间,光刻胶的爆发力,一定是在高端产品方面。

    不管是公司,照样走业的上下游,都憧憬龙头公司能够突破高端光刻胶受制于人的局面,使光刻胶国产化由矮端走向高端。

    清新了这个大倾向,吾们才能心有成竹,筛选真实的龙头企业。

    龙头纵横 前景可期!

    那么,就像很众檀香疑心的相通,原形什么才算龙头?

    半导体光刻胶生产和研发企业现在主要有五家,别离为苏州瑞红(上市公司晶瑞股份子公司)、北京科华、南大光电、容大感光、上海新阳。

    以下从半导体的三代光刻技术对于上述五家公司进走对比。

    最先是G/I线光刻胶(436/365nm),现在的国产化率是三代光刻技术中最高的,占比15%。

    其中北京科华已经能够实现I线光刻胶产能500吨/年;苏州瑞红则实现120吨/年(02专项);容大感光则正在产能建设中。

    其次是KrF/ArF光刻胶(248/193nm),现在除了北京科华的年产量(KrF)能够达到10吨,几乎一切都靠进口。

    不过,苏州瑞红(KrF)已经进入产品中期测试阶段;上海新阳则展望6月份进入产品中期测试。

    更为高端的ArF方面,北京科华已经实现了立项,处于研发阶段。

    此外,今年5月22日,南大光电在互动平台外示,公司的ArF光刻胶正在按计划进走客户测试,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了主要突破,从研发最先走向生产。

    按照南大光电公司之前的新闻,公司于2017年最先研发“193nm光刻胶项现在”,已获得国家“02专项”的相关项现在立项,计划经由过程3年的建设、投产及实现出售,联系我们达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产周围。

    末了,就是最“高级”的极紫外(EUV光刻胶)。

    现在,国内只有北京科华参与的国家科技壮大专项极紫外(EUV)光刻胶项现在已经由过程验收。

    不过,EUV光刻胶也不是现在急需的,由于国内现在还异国EUV工艺量产,193nm的ArF光刻胶更添主要。

    能够望出,北京科华是当之无愧的龙头之一。固然北京科华不属于未上市公司,但有两家上市公司是北京科华的持股股东。

    最“疯狂”的当属近五个交易日便收获5个涨停板的彤程新材,据其7月9日发布的股价异动公告表现,公司全资子公司彤程电子受让北京科华33.70%的股权并完善工商变更登记。

    此外,上市公司高盟新材也在往年从南大光电的手里买下了3.67%的股权。

    北京科华成立于2004年8月,是中国第一家生产光刻胶的公司,创首人陈昕是一个典型的工科女生,1990年美国马萨诸赛州立大学高分子专科钻研生卒业,卒业后先在一家美国光刻胶公司做事,后行为创首人之一在美国创建了MCC光刻胶公司,2004年回国创业。

    值得一挑的是,科华微电子是现在国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司,其最幼分辨率可达0.11um。经由过程与客户晶圆厂同样的检测设备配置,实现了上下游产品检测的无缝对接。

    除了经由过程投资北京科华进军光刻胶走业的彤程新材和高盟新材,曾经主交易务为汽车用改性塑料产品的普特利,也在往年经由过程投资了王晓伟博士的光刻胶公司——苏州理硕科技有限公司,成功进军光刻胶走业。

    该公司现在正处于产品研发阶段,主要倾向是KrF和ArF、TFT、PSPI等光刻胶产品的企业。

    关于王晓伟博士,业内评价很高,有谓之“光刻胶第一人”,是日本和美国光工程学会会员,众年在日本从事EUV光刻胶的量产化做事,永远与JSR、信越公司竞争。

    这样来望,光刻胶走业可谓是朝气荣华,蒸蒸日上。

    但是,尤其必要仔细的是,光刻胶质量倚赖于上游原材料,但高端光刻胶原材料被高度垄断,吾国只能进口。

    以是,国内光刻胶龙头企业在启动ArF光刻胶项现在时,仍必要承受原材料被封锁的风险。

    对这栽情况,国际巨头的操作是:向产业上游伸脱手,达到生产自给自足的方针。自然,国内也有厂商借鉴了这栽模式来降矮风险。

    比如说上海新阳,就选择了与配相符伙陪同时开发关键原材料,来确保ArF项方针原材料供答不至于某镇日骤然被“欠缺”。

    综上所述,光刻是芯片制造中的关键一环,光刻胶也是光刻过程中不走无视的主要板块,荟萃力量突破技术天擎,仍是异日长时间内的主题。

    光刻胶,这样时兴,固然微茫,仍值得一等。

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    【来源:中国新闻网】

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